光刻蚀刻超纯水设备 旭能环保设备
超高纯度：水中的杂质离子、有机物、微生物等会影响光刻胶的性能、光刻图案的精度以及蚀刻效果，因此要求超纯水的电阻率通常需达到 18.2MΩ・cm 以上，几乎不含任何杂质离子，总有机碳（TOC）含量要低于 10ppb 甚至更低，微生物含量每毫升不超过 1CFU。
极低颗粒度：在光刻蚀刻过程中，微小颗粒可能会导致光刻图案失真、短路或开路等问题，降低芯片的良品率。所以超纯水必须严格控制颗粒数量，一般要求每升水中大于 0.1μm 的颗粒数不超过 100 个，甚至更少。
稳定的水质：光刻蚀刻工艺对水质的稳定性要求极高，水质的波动可能会导致工艺参数的变化，影响产品质量的一致性。超纯水设备需要具备稳定的运行性能，确保在连续生产过程中水质始终保持在规定的范围内。
高流量和压力：旭能为了满足光刻蚀刻生产线的连续用水需求，超纯水设备需要具备足够的产水能力，能够提供稳定的高流量和适当压力的超纯水，以保证清洗、蚀刻等工艺的顺利进行。
