可实际。它是微电子制造过程中的重要设备之一，通过化学或物理作用在半导体表面刻蚀出微小的凹槽和沟槽，用于制造微电子器件。刻蚀机的刻蚀过程与传统的雕刻类似，但需要高精度的设备和控制，以保证芯片表面的加工精度和稳定性。刻蚀机的使用标志着半导体制造技术的一个重要步骤，即通过化学或物理撞击作用将材料移除，形成所需的结构图案。
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- 发布时间：2024-08-27 17:46:26,加入时间:2024年04月09日(距今257天)
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