真空炉是一种在真空环境中进行加热的设备，广泛应用于陶瓷、冶金、化工、玻璃、气体还原等领域。
真空炉的设计和操作基于真空技术与热处理技术的结合，旨在提供一个低于一个大气压的气氛环境进行加热处理。这种环境可以是低真空、中等真空、高真空或超高真空，从而实现对材料的高质量热处理。真空热处理能够实现几乎所有常规热处理工艺，但质量大大提高。
真空炉内部可以使用不同的发热元件，如硅碳棒、硅钼棒等，以适应不同的温度需求，这些发热元件在真空环境中能够有效地加热和处理材料。
真空炉的应用可以追溯到20世纪30年代，当时美国首次制造了电工材料真空退火炉。随着技术的发展，真空炉逐渐发展成为一种重要的材料处理设备，特别是在需要高纯度或特殊物理性质材料的生产中。
