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目前与国内多家混悬液厂家设计方案 液体药剂中的药物可以是固体、液体或气体，在一定条件下分别以分子或离子、胶粒、颗粒、液滴状态分散于液体分散媒（溶剂，下同）中组成分散体系。如分散相以分子或离子状态分散于液体分散媒中者称为溶液，其中溶质分子量小的称为低分子溶液；溶质分子量大的（如蛋白质类）则称为高分子溶液。胶体溶液除了高分子溶液以外，还包括溶胶，它由多分子聚集体作为分散相的质点，分散在液体分散媒中。如果以固体颗粒或液滴分散于分散媒中，颗粒或液滴与分散媒之间有相界面，前者称为混悬液，后者称为乳浊液。 若要制得沉降缓慢的混悬液，应减少颗粒的大小，增加分散剂的粘度及减少固液间的密度差。实验工作中主要应用前两种手段增加稳定性。增稠剂可用糖浆、天然胶类、以及合成的可溶性纤维素类。
根据医药行业规定，一般混悬液的粒径要求在15微米以下，目前大多数企业采用胶体磨对物料进行细化，上海IKN高剪切胶体磨转速可达14000rpm，是普通胶体磨的4-5倍，细化能力更强，效率更快。 胶体磨CM2000系列特别适合于胶体溶液、超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外，CM在摩擦状态下工作，也就被称做湿磨。在锥形转子和定子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙，在工作中，分散头偏心运转使溶液出现涡流，因此可以达到更好的研磨分散的效果。CM2000整机采用jia几何机构的研磨定转子，的表面处理和材料，可以满足不同行业的多种需求。
高剪切胶体磨运行原理： 高剪切胶体磨在电动机的高速转动下物料从进口处直接进入高剪切破碎区，通过一种特殊粉碎装置，将流体中的一些大粉团、粘块、团块等大小颗粒迅速破碎，然后吸入剪切粉碎 区，在十分狭窄的工作过道内由于转子刀片与定子刀片相对高速切割从而产生强烈摩擦及研磨破碎等。在机械运动和离心力的作用下，将已粉碎细化的物料重新压入精磨区进行研磨破碎。精磨区分三级，越向外延伸一级磨片精度越高，齿距越小，线速度越长，物料越磨越细，同时流体逐步向径向作曲线延伸。每到一级流体的方 向速度瞬间发生变化，并且受到每分钟上千万次的高速剪切、强烈摩擦、挤压研磨、颗粒粉碎等，在经过三个精磨区的上千万次的高速剪切、研磨粉碎之后，从而产 生液料分子链断裂、颗粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分达到分散、粉碎、乳化、均质、细化的目的。液料的小细度可达0.5um。 IKN胶体磨结构：三道磨碎区：一级为粗磨碎区，二级为细磨碎区，三级为超微磨碎区。 我们的磨头的结构：沟槽的结构式斜齿，每个磨头的沟槽深度不一样，并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下，而他们的斜齿的每个磨头的沟槽深度一样，流道体积是一样大，这样形成了本质的区别。我们可以保证物料从上往下一直在进行研磨，而他们只能在一级磨头到另外一级磨头形成研磨效果。
CM2000系列混悬液胶体磨的特点：
1、定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离；
2、齿列的深度：从开始的2.7mm 到末端的0.7mm，范围比较大，范围越大，处理的物料颗粒大小越广；
3、沟槽的结构式斜齿，每个磨头的沟槽深度不一样，并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下。
IKN的CM2000系列和国内设备相比 三机结构 磨头结构 转速 线速度 模块头 密封类型 产品效果 国内设备 沟槽是直线，同级的沟槽深度一样 沟槽的结构式斜齿，每个磨头的沟槽深度不一样，并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下 目前是不通过变频器来调节，若通过变频调节，他们的轴承不能承受高速运转。一般在3000RPM（这是由于胶体磨的内部结构及精密的程度决定的。） 大约在10-15M/S 只有一种模块头 单机械密封或轴封，泄漏故障率高，产品泄漏进入马达，造成马达烧毁 粒径细度有限，100微米以下较困难，重复性差。
IKN 上海依肯 沟槽是曲线，上下深度不一，上深下浅 斜齿的每个磨头的沟槽深度一样，流道体积是一样大 可以通过变频调速，转速可达7890/13789RPM ，通过皮带加速 我们轴承可以承受140000RPM(转速是他们的3-4倍，研磨的力度也是他们的3-4倍，这样研磨的细度更小) 23-40 M/S 可以选择六种不同的模块头，实现多种功能，如三级乳化模块，超高速模块，CM胶体模块，CMO胶体模块，批次粉液液混合模块，连续粉液混合模块 双机械密封，易于清洗，将泄漏降至，可24小时不停运转 可实现1-10微米小粒径材料加工。
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