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半导体厂含毒性废气怎么办法处理

  • 发布时间：2018-10-08 00:00:00,加入时间:2013年03月04日(距今4377天)
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半导体厂含毒性废气怎么办法

含毒气性废气。

其来源为化学气相沉积、干蚀刻机、扩散、离子布值机及磊晶等制程时所产生。主要成分是磷化氢、砷化氢、氯气等。

关于半导体行业废气排放标准主要有2个，一个是国家正在制定的《电子工业污染物排放标准》，现处于征求意见阶段，尚未正式颁布实施，另一个是上海市于2006年颁布实施的《半导体行业污染物排放标准》。

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