高低温细丝炉体，硼扩磷扩工业炉主要用作半导体、功率器件、集成电路等行业中管式热壁产品的加热装置。可与美国TEMPRESS、美国TYAN、美国THERMCO、荷兰ASM、英国BTU、日本TEL等国外多种型号扩散炉配套（替代进口），采用国外先进的加工工艺，选用进口材料，制作而成。可用于2-8英寸硅片的扩散工艺。
炉体为扩散炉提供热能源
扩散炉主要用途是在高温条件下对半导体晶圆进行掺杂，即将元素磷、硼扩散入硅片，从而改变和控制半导体内杂质的类型、浓度和分布，以便建立起不同的电特性区域。
同时还会在硅片表面生长一层二氧化硅膜，起到保护硅晶体的作用。而炉体作为扩散炉温区控制核心部件，在炉体运行中起到至关重要的作用。
