成都kemet抛光机应用于材料表面
kemet抛光机
用于 KemCol 15 的配件和耗材
描述 代码
3 件套陶瓷面调理环 361522
不锈钢塑料面调节环 362757
380 毫米不锈钢支撑板（用于抛光垫） 362033
380 毫米铝制升降盘 361001
380 毫米铝制驱动板 361002
380 毫米薄金属盘（用于磁性系统） 342563
380 毫米磁盘 345773
CMP 研磨液 5 升 10 升 20 升
Col-K 600212 600238 600204
科尔-K（NC） 600199 600239 600202
kemet抛光机
CMP抛光液
耗材 代码
380 毫米 CHEM-H 聚氨酯抛光垫 341865
380 毫米 PSU-M 铈化学纺织布 341011
380 毫米 MRE 短绒毛最终抛光垫 341715
kemet化学机械抛光介绍
化学机械抛光 (CMP) 是一种在制造业中越来越流行的表面抛光方法。CMP 是将化学力和机械力组合应用于材料表面，以将其抛光至非常高的光滑度。该工艺对于难以加工或具有复杂几何形状的材料特别有用。
