镀膜机的主要功能是在高真空环境下进行薄膜镀制，通过物理方法溅射出金属原子，使金属原子沉积在样品表面，从而形成一层薄膜。这种设备具有高精度控制系统，能够精确控制蒸镀过程中的各种参数，如温度、气压、蒸发速率等，确保薄膜制备的质量和稳定性。
镀膜机的工作原理主要是通过在真空条件下，利用蒸发或溅射等方式发射出膜材料粒子，沉积在金属、玻璃、陶瓷、半导体以及塑料件等物体上形成镀膜层，达到装饰、保护、防污、防潮、延长物体寿命等作用。真空镀膜机的技术指标包括极限真空度、可镀空间尺寸等，这些指标保证了镀膜过程的可控性和薄膜的质量。
