小型坩埚真空高温镀膜仪KT-Z1650CVD是一款小型台式加热功率可控蒸发镀膜仪，仪器虽小功能齐全，配备有电压 电流反馈,样品台旋转，样品高度调节，及电动挡板功能。通过定时调节预热功率及蒸发功率，可对大部分金属进行均匀蒸发沉积，真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染，样品台可旋转以获得更均匀的薄膜，可制备各种金属薄膜和有机物薄膜
小型溅射仪
小型坩埚真空高温镀膜仪技术资料
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控制方式 |
7寸人机界面 手动 自动模式切换控制 |
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加热方式 |
数字式功率调整器 |
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镀膜功能 |
0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序 |
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功率 |
≤1200W |
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输出电压电流 |
电压≤12V 电流≤120A |
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真空度 |
机械泵 ≤5Pa（5分钟） 分子泵≤10^-3Pa |
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挡板类型 |
电控 |
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真空腔室 |
石英+不锈钢腔体φ160mm x 160mm |
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样品台 |
可旋转φ62 （可安装φ50基底） |
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样品台转速 |
8转/分钟 |
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样品蒸发源调节距离 |
70-140mm |
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蒸发温度调节 |
≤1800℃ |
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支持蒸发坩埚类型 |
钨丝蓝 带坩埚钨丝蓝 钨舟 碳绳 |
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预留真空接口 |
KF25抽气口 KF16真空计接口 KF16放气口 6mm卡套进气口 |
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可选配扩展 |
机械真空泵（可抽真空 5分钟＜5Pa） 数显真空计（测量范围大气压到0.1Pa） 分子泵机组（可抽真空20分钟≤5x10-3Pa） |
