CLevios Etch和 CLevios Set S3
用于涂层线路图案的辅助材料。CLevios Etch是一种水溶性粉末，CLevios Set S3是一种可印刷掩模（丝网印刷）。
贺利氏开发的一种特殊技术，通过湿法工艺对Clevios线路图案进行处理。生成的线路肉眼几乎看不见，因此不需要额外的步骤遮盖，从而降低了成本。掩膜可以通过经济的丝网印刷、凹板印刷或柔性印刷工艺来完成，或者通过光刻胶来实现更精细的结构。生产过程中，可以通过CCD进行光学检测，这种特殊分析检测方式很容易实现。贺利氏可提供技术支持服务。
CLEVIOS™PEDOT:PSS材料为我们打开通向应用领域的大门。只要您需要一种可以象液体一样易于使用的透明电极，请考虑使用我们的CLEVIOS™聚合物材料。CLEVIOS™分散体及配方材料可通过不同的工艺形成涂层，如涂覆、喷涂或甚至在塑料和玻璃基材上印刷。涂好的湿膜可在80-130℃之间的中等温度范围内干燥。干膜进一步热处理可直接使用。所形成膜的表面电阻率变化范围大，从能够(10E8欧姆/平方)到高导电性(200欧姆/平方)，且具有过85%的高透光率。但是，CLEVIOS™分散体不可覆盖扁平基材，还可在多孔的钽和铝电容器上形成涂层。液态导电聚合物可穿过整个电容器结构，可实现的电气接触。
产品优点：高导电、高柔性、高透明（无气泡）、多种加工方式（可三维加工）、单组份水性产品（环保）。
Heraeus贺利氏电子化学材料clevios系列可提供用于原位聚合的单体、水基分散体、溶剂与溶液混合而成的即用型配方材料。
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