KZSD2000导热硅脂研磨分散机

KZSD2000导热硅脂研磨分散机
导热硅脂的制备：传统方式使用硅烷偶联剂处理陶瓷粉体，持续搅拌，溶解后，加入粉体，继续搅拌；调整PH值在10左右，60度水浴，搅拌3小时，超声分散15分钟。烘干后按比例加入填料和硅油，将混合物放入研磨机研磨数十遍，得到复合材料。这种制备方法耗时耗力，且非常麻烦；新的制备只需要交混合好的填料和硅油按一定比例导入胶体磨，研磨数分钟即可，冷却后即得复合材料，经检测颗粒细腻均匀，性能更好。

导热硅脂胶体磨KZSD2000系列特别适合于胶体溶液，超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外，KZSD在摩擦状态下工作，也就被称做湿磨。在锥形转子和定子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙，在工作中，分散头偏心运转使溶液出现涡流，因此可以达到更好的研磨分散的效果。KZSD2000整机采用几何机构的研磨定转子，更好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

ZKE胶体磨与国内胶体磨的性能比较

一、转速和剪切速率：

ZKE胶体磨，可选择德国机械密封，转速可以达到15000转    

F=23/0.7X1000=32857 S-1  

F=40/0.7/X1000=57142 S-1                      

国内胶体磨，可选择机械密封一般3000转，大约在 S-1

通过转速比较可知，这是乳粉碎研磨的重要因素，相当于前者是后者的2-3倍

二、胶体磨头和间距：

ZKE胶体磨，可以选择六种不同的模块头，实现多种功能，如三级乳化模块，超高速模块，KZSD胶体模块，KZSD胶体模块，批次粉液液混合模块，连续粉液混合模块。

间距可调，可实现1-10微米小粒径材料加工

国内胶体磨，只有一种模块头，粒径细度有限，100微米以下较困难，重复性差

三、机械密封：

ZKE胶体磨，双机械密封，易于清洗，将泄漏降至更低，可24小时不停运转

国内胶体磨，单机械密封或轴封，泄漏故障率高，产品泄漏进入马达，造成马达烧毁

四、清洗：

ZKE胶体磨，立式，皮带驱动，易于维护，可有效保护马达及齿轮箱，防止损坏,符合流体流动原理，具有GIP/SIP在线清洗，在线杀菌功能，无需拆卸，机器设计*，立式结构符合流体原理，清洗更简便

国内胶体磨，卧式或立式（马达一体式），轴承部分受力较大，易于损坏，维护保养复杂，

通常情况，需要拆卸机器进行清洗

KZSD2000系列高剪切胶体磨的特点：

定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。

齿列的深度：从开始的2.7mm 到末端的0.7mm，范围比较大，范围越大，处理的物料颗粒大小越广。

沟槽的结构式斜齿，每个磨头的沟槽深度不一样，并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下。

KZSD2000导热硅脂研磨分散机型号表：