TJ溅射掩膜版叉指电极掩膜板掩膜支架激光加工激光精

  • 发布时间:2023-08-28 15:35:01,加入时间:2018年05月18日(距今2379天)
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光刻掩膜版(又称光罩,英文为mask reticle),简称掩膜版,是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构,再通过图形信息转移到产品基片上。
待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、铬层和光刻胶层构成。其图形结构可通过制版工艺加工获得,常用加工设备为直写式光刻设备,如激光直写光刻机、电子束光刻机等。
掩膜版应用十分广泛,在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版,如ic(integrated circuit,集成电路)、fpd(flat panel display,平板显示器)、pcb(printed circuit boards,印刷电路板)、mems(micro electro mechanical systems,微机电系统)等。
使命:用激光技术,解决客户问题,助力科学发展
愿景:成为掩膜版加工解决方案者
价值观:专业 共赢
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