高饱和光学变色材料研磨粉碎设备研磨分散机

高饱和光学变色材料研磨粉碎设备研磨分散机，含钛光学变色材料粉碎型研磨分散机，含铬光学变色材料湿法粉碎机、全介质光学变色材料湿法研磨分散机

   光学变色材料具有与观察角度相关的颜变色化现象，观察者在不同的角度能观察到不同的颜色，特别是在和光学变色薄膜表面的法线方向呈0度角或60度角左右观察时，光学变色薄膜将呈现出明显不同的颜色。光学变色材料由于该特性而广泛应用于防伪、印刷等域。然而，随着生产生活当中各方面要求的不断提高，当的光学变色材料在耐酸、耐碱、色彩等方面在诸多域已难以满足使用需求。

  然而对光学变色材料进行热处理，需要对光学变色材料进行粉碎处理，以得到粉碎的光学变色材料

  CMSD2000系列改进型胶体磨研磨式分散机是由胶体磨和分散机组合而成的高科技产品，先锥形研磨头具有精细度递升的多锯齿凸起和凹槽。定转子间隙可以根据需要无限制调整间隙。第二由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。通过粉碎型研磨分散机定转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效的乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果，出料粒径可以微纳米。

影响研磨分散结果的因素有以下几点

1 研磨头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次好）

2 研磨头的剪切速率  （越大，效果越好）

3 研磨头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，超细齿，约细齿效果越好）

4  物料在分散墙体的停留时间，乳化分散时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）

5 循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不能再好）

线速度的计算

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

– 剪切速率 (s-1) = v  速率 (m/s)/   g 定-转子 间距 (m)

由上可知，剪切速率取决于以下因素：

– 转子的线速率

– 在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（转子直径）X 转速 RPM  /   60

CMSD2000系列研磨分散机选型表

表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，可以被调节到大允许量的10% 

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