一、半导体清洗用超纯水设备概述
半导体清洗用超纯水设备主要应用在半导体清洗行业，该设备采用先进的反渗透技术和ED1技术，保证设备的质量和出水水质。该设备整体采用先进的不锈钢材质，抗腐蚀能力强，同时也不会出现生锈问题，质量可靠，受到用户的一致好评。
二、半导体清洗用超纯水设备工作原理
EDI装置将离子交换树脂充夹在阴阳离子交换膜之间形成EDI单元，EDI工作原理如下图所示，EDI组件中将一定数量的EDI单元间用网状物隔开，形成浓水室。又在单元组两端设置阴阳电极。在直流电的推动下，通过淡水室水流中的阴阳离子分别穿过阴阳离子交换膜进入到浓水室面在淡水室中去除。而通过浓水室的水将离子带出系统，成为浓水，ED1设备一般以反渗透（RO)纯水作为EDI给水．RO纯水电导率一般是40-2μ Scm(25℃).
EDI纯水电阻率可以高达18MQ.cm(25℃),但是根据去离子水用途和系统配置设置，EDI纯水适用于制备电阻率要求在1-18. 2MΩ.cm(25℃)的纯水。
三、半导体清洗用超纯水设备制备工艺
1、预处理系统反渗透系统一中间水箱粗混合床精混合床纯水箱纯水泵紫外线杀菌器抛光混床精密过滤器用水点。（≥18MΩ.C0(传统工艺）
2、预处理反渗透中间水箱水泵ED1装置纯化水箱一辣水系一紫外线杀菌器一随光溉床0. 2或0. 5μ=精密过滤器用水点。（＊18MΩ.CM(工艺）
3、预处理一级反渗透加药机（PH调节）中间水箱二级反渗透（正电荷反渗膜）纯水箱纯水泵EDI装置紫外线杀菌器0. 2或0. 5μm精密过滤器用水点。（≥17MΩ.00(工艺）
4、预处理反渗透中间水箱水泵EDI装置一纯水箱纯水泵紫外线杀菌器0. 2或0. 5μ=精密过滤器用水点。（≥15Ω.00(工艺）
5、预处理系统一反涉透系统一中间水箱纯水泵一相混合床精混合床紫外线杀菌器一精密过滤器一用水点。（≥15MΩ.CD(传统工艺）
