混悬液超细研磨胶体磨，医药混悬液研磨分散机 结合多家知名药企案例，建议采用CMSD2000系列研磨分散机进行医药混悬液的研磨混合分散，一般粒径可达DN90≤5μm,产品均匀度更高。并且CMSD2000系列更环节都带有夹套,处理过程中可对物料进行温度控制;清洗方便，符合在线清洗和灭菌。采用胶体磨和分散机的一体化设计相对于胶体磨和分散机的串联而更具优势。串联的话存在时间差，当物料通过胶体磨之后，磨细后物料会出现抱团的现象，经过分散机分散，效果不是很好。而CMSD超细研磨分散机的话,物料磨细后,瞬间又通过分散工作组，进行分散,在物料还未抱团之，就进行了分散，一个瞬间作用,效果会好很多。
IKN剪切分散胶体磨在医药行业的应用案例:
1、头孢类混悬液,采用CMSD2000系列高剪切分散胶体磨， 处理30min,粒径可达5μm;
2、疫苗趿脂肪乳乳化,采用IKN分散胶体磨，乳液粒径可达300nm;
3、阿苯达唑混悬液,采用CMSD2000分散胶体磨，14000rpm, 粒径可达10μm;
4、口服液,采用KN分散胶体磨, 14000rpm, 20min, 粒径可达3μm;
当然还有其他方面的应用，以及具体工艺得出的结果不一定相同,供参考! 。
混悬液超细研磨胶体磨由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力，透过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。
上海依肯IKN混悬液超细研磨胶体磨技术参数选型表：
胶体磨型号 流量L/H 输出转速rpm 线速度m/s 马达功率kw 出口/入口连接
CMSD2000/4 300 14000 41 4 DN25/DN15
CMSD2000/5 1000 10500 41 11 DN40/DN32
CMSD2000/10 4,000 7200 41 22 DN80/DN65
CMSD2000/20 10,000 4900 41 45 DN80/DN65
CMSD2000/30 20,000 2850 41 90 DN150/DN125
CMSD2000/50 60,000 1100 41 160 DN200/DN150
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到大允许的10%。
1、表中上限处理量是指介质为"水”的测定数据。
2、处理量取决于物料的粘度,稠度和终产品的要求。
3、如高温，高压，易燃易爆，腐蚀性等工况,必须提供准确的参数，以便选型和定制。
4、本表的数据因技术改动，定制而不符,正确的参数以提供的实物为准。
5、本系列机型具有短程送料能力，无自吸功能，须选用高位进料;物料粘度或固含高导致不能正常进料和输送时，须选用压力或输送泵进料或送料,输送泵的压力和流量与被选机型相匹配。
