牛胸腺组织细胞破碎胶体磨

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     CMSD2000系列研磨分散（胶体磨）设备特别适合于需要研磨分散均质一步到位的物料。我们将高剪切均质分散机进行改装，我们将三变跟为一，然后在均质头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过均质将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）

CMSD胶体磨设备选型表：

胶体磨 流量* 输出 线速度 功率 入口/出口连接 类型

l/h rpm m/s kW

CMSD 2000/4 300 14,000 41 4 DN25/DN15

CMSD 2000/5 1000 10,500 41 11 DN40/DN32

CMSD 2000/10 4000 7,200 41 22 DN80/DN65

CMSD 2000/20 10000 4,900 41 45 DN80/DN65

CMSD 2000/30 20000 2,850 41 90 DN150/DN125

CMSD2000/50 60000 1,100 41 160 DN200/DN150

*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到大允许量的10%。

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