设备主要技术参数

1) 外形尺寸（约）:L1200×W1100×H1850（mm） 外观喷塑处理

2) 反应仓尺寸：不锈钢 W450mm×H400mm×D470mm

3) 电源：主系统电源: 380×(1±10%)V(AC) 50Hz～60Hz 三相五线

4）等离子体频率：13.56MHz

5）射频电源功率：（0～600）W 可调

6）设备功率：≤4kW

7)控制方式：采用包括触摸屏人机界面的 PLC 控制，操作方式包括自动模式和手动模式。在自动模式下将不同工艺参数按照配方方式管理， 可同时存储 100 组不同的配方。使用时只需要将相应配方号调出即可。设备参数分级管理，设备操作员、工艺人员、维护人员使用不同口令管理不同参数，提高设备安全性。手动模式用于实验工艺以及设备维护维修。

8)MFC 质量流量控制

气体流量：(0～200)ml/min （标况下）

9)工作气体(氧、氩等)接口压力：≤0.45MPa

10）压缩空气（启动气动角阀）接口压力：0.5Mpa

11）净化冷却气体（氮气）接口压力：0.45MPa

12）设备工作节拍：单次清洗时间≤8min（清洗时间 6min，具体以实际清洗时间为准）

13）工作真空度：30～150Pa

14）反应仓工作温度：30~60℃

15)极板数量：水平电极板≥8 层，极板间任意组合