一、什么样的布图设计具有独创性？
要求保护的布图设计必须具有独创性，即该布图是创作者自己的智力劳动成果，并且在其创作时，该布图设计不是布图设计创作者和集成电路制造者中公认的常规设计。
受保护的由常规设计组成的布图设计，其组合作为整体同样应当具有独创性。
在这里，独创性评判的时间“创作时”为创作完成日；评判人为布图创作者和集成电路制造者；评判标准要视其是否是公认的常规设计。
特别应当指出的是布图设计仅保护根据网表设计出的布图，并不能延及思想、处理过程，操作方法或数字概念。同时，不登记不予保护。
二、谁能享有布图设计专有权？
中国的单位、个人或者其他组织创作的布图设计，依照条例享有布图设计专有权。
对于外国人，要区别对待：外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照条例享有布图设计专有权；未在中国首先投入利用的布图设计，必须在中国参加WTO之后，才能申请。
港、澳、台地 区的申请，按国内申请处理，但法人必须委托涉外代理机构办理。
根据条例规定，布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起2年内，仍可向国家知识产权局提出登记申请。我国根据TRIPS协议，将这一专有权追溯到1999年10月1日。
国家知识产权局对布图设计的权利人采用推定原则，即认为凡是到国家知识产权局来申请的，都视其是有权利的人。若出现问题，应通过司法程序解决。
三、申请人应提交哪些文件和样品？
申请人应提交的文件和样品包括布图设计登记申请表；布图设计的复制件或图样；布图已投入商业使用的，应提交含有该布图的集成电路样品；国家知识产权局规定的其他材料。
出现哪些问题申请将失败？
申请人未提交申请表，未提交复制件或图样，或者已投入商业利用未提交样品，或者与文件不一致；外国的申请在我国未参加WTO时提交；外国的申请以及港、澳、台的法人申请未按规定委托代理机构；首次商业利用日在申请日之前超过2年；创作日超过15年。
申请明显不属于集成电路布图设计；难以确定属于集成电路布图设计；申请表未写明申请人或地址、或集成电路名称、或商业利用日、创作日的；未使用中文的。
四、如何提交集成电路样品？
申请保护的布图设计在申请日前已投入商业利用的，应当在申请时提交4件含有该布图的集成电路样品，并应当符合下列要求：所提交的4件集成电路样品要置于能保证其不受损坏的专用器具中，并附具填写好的国家知识产权局编制的统一表格；器具表面应当注明申请人姓名、申请号和集成电路名称；器具中的集成电路样品应当采用适当的方式固定，不得有损坏，并能够在干燥器中至少存放10年。
五、初步审查将审查哪些内容？
申请表中各项内容和手续的审查以及图纸或复制件审查均在初步审查之列。同时，还将审查提交的申请是否明显不符合集成电路布图设计的定义，即审查集成电路中是否具有以半导体材料为基片、至少具有一个有源元件的2个以上元件以及元件之间的互连线中部分或全部三维配置。另外，就要看申请保护的布图设计是否要求将保护延及思想、处理过程、操作方法、或数字概念了。
六、何为撤销审查？
撤销审查是由国家知识产权局启动，而不是由社会公众启动。撤销的理由可有：登记的集成电路布图设计在世界任何地方首次利用日至申请日超过了2年；布图设计自创作完成时起已超过15年；不符合集成电路定义；不具有独创性；要求保护延伸至方法、思想；外国是非国际条约参加国，等等。
七、谁来启动中止程序？
由启动专有权权属纠纷司法诉讼的当事人启动时，要提交请求书和人民法院受理通知书。中止的期限为1年，期满未办理延长请求的，国家知识产权局将自行恢复程序。
法院诉讼保全由法院启动，期限按裁定书规定，期满法院没有裁定继续保全的，国家知识产权局将自行恢复程序。
八、专有权的保护期限有多长？
布图设计权的保护期限为10年，自布图设计登记申请之日或在世界任何地方首次投入商业使用之日计算，以较前日期为准。但是，无论是否登记或投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受到保护。
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