在化学场所见得最多的水处理设备是什么答案当然是工业EDI去离子水处理设备，工业EDI去离子水处理设备应用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理等方法将水中的导电介质几乎完全去除，并且将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低的状态，那么常见工业EDI去离子水处理设备堵塞的原因分析及注意事项有哪些
一、颗粒/胶体污堵
进水颗粒度>5um时会造成进水流道堵塞，引起模块内部水分分部不均匀，从而导致模块整体性能降低。如果EDI模块的进水不是直接由RO产水端进入EDI模块，而是通过RO产水箱经过过压泵供水，建议在进入EDI模块前段增设保安过滤器(<0.2um)。在组装EDI设备时，所有的连接管道系统应冲洗干净以预防管道内的颗粒杂质进入模块。
二、无机物污堵
如果EDI进水含有较多的溶质且超出设计值或者回收率超过设计值时，将导致浓水室和阴极室的结构，生成盐类物质析出沉淀，通常结垢的类型为钙、镁离子生成的碳酸盐。即使这类物质的浓度很小，接触时间很短，但随着运行时间的累加，仍有发生结垢的可能，这种硬度结垢后很容易通过酸洗去除。使用低PH溶液在EDI系统内部循环冲洗，可以去除浓水室和阴极室的结垢。当进水中的铁和锰含量高，或者高TDS的以外进入到EDI模块时，也会使淡水室的离子交换树脂或者浓水室形成无机物污堵。也可以采用酸洗方式进行冲洗。
三、有机物污堵
当进水有机物污染TOC或TEA含量超过设计标准时，淡水室的离子交换树脂和离子膜会发生有机污堵。可以采用高PH值的药水对淡水室及浓水室循环清洗可以将有机物分子清除离子交换树脂对这种污堵进行清洗。
