，CdS/石墨烯纳米复合材料高剪切研磨分散机，石墨烯纳米复合催化剂研磨分散机，高剪切研磨分散机，高转速研磨分散机，改进型研磨分散机，管线式研磨分散机，IKN新型研磨分散机，在线式研磨分散机，真空密闭研磨分散机
IKN研磨分散机设计独特，能够延长易损件的使用时间，因此尤其适合高硬度和高纯度物料的粉碎。可以一机多用，也可以单独使用，且粉碎粒度范围广，成品粒径可以进行调整。
石墨烯是一种新型的二维碳纳米材料， 其能隙为零，具有超大的比表面积(2 630 m2·g-1)、良好的化学稳定性以及在室温下超高的载流子迁移率(2×105cm2·V-1·s-1)。研究表明，将CdS 与石墨烯复合，利用石墨烯规整的二维平面结构作为其载体， 一方面可以提高CdS 的分散程度，另一方面可加快光生电荷迁移的速率， 提高复合材料的催化活性和光稳定性。另外，大量石墨烯包裹在CdS 纳米颗粒表面，呈现出黑色， 可以提高复合材料对可见光的吸收能力。然而，目前有关CdS/石墨烯复合材料的研究还很鲜见，常用的制备方法主要有一锅法、水热-溶剂热法、微波辅助合成等，但这些方法操作复杂，得到的复合材料中CdS 纳米粒子的颗粒尺寸大、粒径分布宽，对复合材料的光催化性能有不利影响。
CdS 纳米粒子与石墨烯复合后，光催化性能明显改善，在0.5 h 内甲基橙的降解率即可达到90%以上，光催化性能的提高一方面是由于石墨烯优异的电子传导性能， 有效降低了光生电子和空穴的复合， 另一方面归因于石墨烯极大的比表面积和优异的吸附性能。同时，超声化学法使得CdS 纳米粒子在石墨烯片层表面牢固结合， 从而促进了光生电荷的传递，提高了载流子的分离效率。此外，由于石墨烯共轭π 键分子的杂化作用，促进了光生空穴的迁移，从而有效抑制了CdS 的光腐蚀。
IKN高剪切研磨分散设备使反应体系实现微观或介微观均匀混合， 使得晶体的生长和颗粒的团聚得到有效的控制，因而可以得到粒度分布窄的超细颗粒。由于该方法具有易于控制、周期短、效率高等优点，已经被用来成功制备了多种金属纳米颗粒、氧化物纳米棒以及金属硫化物纳米颗粒等。
上海依肯的研磨分散机特别适合于需要研磨分散均质一步到位的物料。研磨分散机为立式分体结构，精密的零部件配合运转平稳，运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封，并通冷媒对密封部分进行冷却，把泄露概率降到低，保证机器连续24小时不停机运行。简单的说就是将IKN/依肯胶体磨进行进一步的改良，将单一的胶体磨磨头模块，改良成两级模块，加入了一级分散盘。可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择） IKN研磨分散机可以高速研磨，分散，乳化，均质等功能，设备转速可达14000rpm，是目前国产设备转速的4-5倍。
从设备角度来分析，影响研磨分散机效果因素有以下几点：
1.研磨头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次式要好）
2.研磨头的剪切速率，（越大效果越好）
3.研磨的齿形结构（分为初齿、中齿、细齿、超细齿、越细齿效果越好）
4.物料在分散墙体的停留时间、研磨分散时间（可以看作同等电机，流量越小效果越好）
5.循环次数（越多效果越好，到设备的期限就不能再好了。）
线速度的计算：
剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-转子 间距 (m)
由上可知，剪切速率取决于以下因素：
转子的线速率
在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D（转子直径）X 转速 RPM / 60
所以转速和分散头结构是影响分散的一个zui重要因素，超高速分散均质分散机的高转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是zui重要的
IKN研磨分散机的应用领域：
1、精细化工、颜料、染料、涂料、油漆、塑料、树脂、热熔胶、阻燃剂、胶黏剂、整理剂、表面活性剂、均染剂防粘剂、消泡剂、光亮剂、橡胶助剂、塑料辅剂、染料助剂、絮凝剂、混凝剂、表面活性剂溶剂、硅油乳化、树脂乳化、炭墨分散
2、石油化工、润滑油、重油混合、油包水、包油水、柴油乳化、改性沥青、乳化沥青、催化剂、蜡乳化
3、农药化肥 、化肥、农药乳化、农药助剂、农药中间体、药乳油、杀虫剂、除草剂、种衣剂、杀菌剂、植物激素、尿素、复合肥、乳油湿性粉剂
4、生物医药、细胞浆化、血清疫苗、蛋白质分散剂、药乳膏、抗生素、糖衣
5、日用化工、护肤霜、护肤膏、洗涤剂、防腐剂、美发用品、牙膏、日用香精
6、食品工业、食品添加剂、香精香料、果汁、果酱、冰淇淋、乳制品、巧克力、植脂末
7、涂料油墨、内外墙涂料、乳胶漆、纳米涂料、建筑胶、光固化涂料、油墨、墨水、碳黑、涂料助剂釉、膨润土
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