太原rp301保护膜

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E-MASK RP 系列适用于保护抗静电性光学级保护膜的表面，生产于1000 级清洁环境下，并以一种聚合物薄膜作为基材。

特征：

高透明性使检查被粘合体的外观变得轻而易举，根本无需剥离胶带。

具有适宜于光学薄膜的良好润湿性和卓越的可重复使用特性。

易剥离。 适合较大尺寸的光学薄膜 (RP207)。

衬背高度防尘，并易于除尘 (RP207)。

衬背可盖印戳或使用喷墨打印机打印 (RP207/RP301)。